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26 marzo 2019

EINA participa en el 27º Simposio Internacional de Diseño Industrial

Oriol Ventura, profesor del Grado de Diseño y coordinador del Máster en Diseño y edición de producto de EINA, ha participado en el 27º edición del Simposio Internacional de Diseño Industrial (SIDI) organizado por la Universidad Autónoma de Nuevo León UANL y la Facultad de Arquitectura FARQ en Monterrey (México) del 13 al 15 de marzo.

En este evento, que ha contado con ponentes del ámbito internacional, Oriol Ventura ha presentado su visión del diseño a estudiantes y docentes de la licenciatura de Diseño Industrial. Entre otras actividades, Ventura impartió un taller de Didáctica con docentes de la facultad, un workshop para los estudiantes y elaboró un plan de acciones para establecer vínculos internacionales con la FARQ.

Oriol Ventura participa en el 27º Simposio Internacional de Diseño Industrial
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